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技術(shù)論文 砂磨機設(shè)計革新

2015-11-25 11:22:37| 次閱讀| 來源歐洲涂料雜志| 作者ECJ

摘要:新設(shè)計使 用帶陶瓷內(nèi)襯的先進分散盤,可提供有效的冷卻。經(jīng)過一個測試 周期,結(jié)果顯示總生產(chǎn)效率提高四倍。

參考文獻
[1] Mende S., Mill performance matched to the task, Europ. Coat. Jnl, No.12, 2014.

結(jié)果一覽

臥式珠磨機的設(shè)計必須進行優(yōu)化,才能完成預(yù)期任務(wù)。 為實現(xiàn)有效研磨(粒徑微細化),需要高沖擊能,但分散需 要能量較低,過多能量輸入會產(chǎn)生廢熱。

多年來,采用過多種不同的設(shè)計代替臥式砂磨機中的標 準光滑分散盤。最近的改進包括在分散盤的表面植入活化元 素,在軸上加裝特殊形狀的隔斷,以及使用能優(yōu)化冷卻效果 的陶瓷襯里。

新型"Alpha"砂磨機集成了所有上述這些研發(fā)成果,方 便更換研磨元件,滿足不同研磨任務(wù)的要求。因此,可有效 利用高功率輸入。

在一次系列測試中,多種創(chuàng)新成果的集成使總生產(chǎn)效率 提高四倍多。